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關于銅鎳合金靶材性能,制備方法及其應用介紹

日期:2022-07-25 瀏覽:195

銅鎳合金靶材是由銅和鎳兩種金屬按照一定比例熔合而成的材料,主要用于濺射沉積薄膜。這種靶材的特點是具有良好的耐腐蝕性能,同時具有優良的機械性能,包括焊接性能、中高強度等。銅鎳合金靶材在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都有廣泛的應用。我們提供多種常用比例,如Ni-10Cu wt%、Ni-20Cu wt%、Ni-30Cu wt%等。這些比例的不同會影響材料的熱塑性、強度和硬度等物理性質。


銅鎳合金靶材


銅鎳合金靶材特征

銅鎳合金靶材形狀:平面靶、異型定制

銅鎳合金靶材純度:4N

銅鎳合金靶材尺寸:按圖紙加工或其他者定制

我們還可以提供銅鎳合金顆粒、銅鎳合金棒、銅鎳合金片等。


銅鎳合金靶材實物圖


銅鎳合金靶材制備工藝

將銅鎳合金鑄錠均勻化退火處理,均勻化溫度為1500~1650℃,保溫時間1~2h;

將退火后的銅鎳合金鑄錠進行擠壓設備下熱擠壓成型,擠壓錠的加熱溫度為900~1000℃,冷卻方式為水冷,得到銅鎳合金擠壓毛坯;

將所銅鎳合金擠壓毛坯冷軋成型,軋制道次為2~5次,單道次軋制厚度為1~5mm;

將銅鎳合金擠壓毛坯在熱處理爐中進行退火處理,退火溫度為900~1100℃,保溫時間為1~3h,冷卻方式為出爐空冷,得到銅鎳合金毛坯靶;

將銅鎳合金毛坯靶機加工后得到所需尺寸的銅鎳合金靶材。


銅鎳合金靶材成分表


上圖是銅鎳合金靶材的微觀結構圖。


銅鎳合金靶材應用

半導體行業:銅鎳合金靶材在半導體芯片制造過程中,用于形成導電線路和互聯結構,提高芯片的性能和可靠性。

光學領域:銅鎳合金靶材在光學元件鍍膜中,可以提供高反射率和良好耐腐蝕性的薄膜,應用于激光器、光纖、光學傳感器等。

電子工業:銅鎳合金靶材在電子元器件制造中,可以提供高導電性和良好焊接性的表面涂層,應用于電阻、電容、電感等。


銅鎳合金其他應用


航空航天領域:常被用于制造飛機發動機部件、航空艙壁和導航設備等。

電子產品制造:具有良好的導電性能,常被用于制造電子產品中的導線、觸摸屏和連接器等。

化工領域:對腐蝕的抵抗能力較強,常被用于化工管道、儲罐和閥門等設備。

石油和天然氣行業:具有優異的耐腐蝕性能和高強度特性,因此常被用于煉油裝置和海底管道等領域。


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